磁控溅射镀金系列

磁控溅射镀膜机镀膜原理为磁控溅射，相对化学镀膜方式，其优点为膜层附着力更强，焊接后拉力测试大于10N；均匀性更好；化学镀膜在45倍显微镜下可看到明显的针孔、凸起，而磁控溅射没有针孔和凸起。

磁控溅射镀膜方式因生产产品过程中始终保持真空，因此无二次污染。下图为设备实物图。

（磁控溅射镀膜机）

镀膜方式对比

镀膜方式对比
	磁控溅射镀膜	化学镀膜
针孔	无	有
球颗粒	无	有
膜层均匀性	±10%	±20%

l 针孔的存在会导致焊接形成空炮、虚焊，其主要影响产品的气密性。

l 球颗粒的存在会导致与金属管的装配误差增加，从而影响调试的效率。

l 均匀性指膜层厚度的一致性，均匀差会导致产品不同区域在不同温度的应力变化大，其性能好坏直接影响到消光比的稳定性。

除了以上优点，磁控溅射镀膜机单纯镀金产能为4万+根/月，并且镀膜种类多，含盖所有金属，典型镀层有Cr、Ti、Ni、Au。也可以进行混合镀膜，比如Ni和Au混合、Ti和Au和Cr混合。

磁控溅射镀膜机的优势明显，一直以高功率及保偏器件为产品生产研发导向的光越科技（深圳）有限公司近期引进磁控溅射镀膜机并且经过研发人员的不断验证，完成高精度研磨机项目，磁控溅射镀金系列产品也正式投入生产，产品系列如下：

01镀金高反玻璃

优势：

l 金属薄膜质量优 ,耐腐蚀性强；

l 镀金薄膜均匀性致密，膜层光滑密实，显微镜下观察无针孔；

l 高牢固度附着力（优于蒸发机），与基片结合度高，镀膜控制精准；

l 镀膜有效面积：50X50mm ，金靶纯度99.99%。

测试数据如下：

（空气入射5°反射率曲线，测试波段中远红外2000-25000nm）

（空气入射5°金反射率测试曲线，测试波段400-2500nm）

（空气入射45°光谱曲线，测量波段400-2500nm）

金+保护膜（400-20000nm）

（金+保护膜2000-20000nm）

02金属化蓝宝石窗口片

金属化蓝宝石窗口片是使用铬、镍、金镀于蓝宝石窗口片边缘制作而成的新型窗口片，金属膜边缘可直接焊接或连接到光学机械装配上，达到密封效果。

应用：光通讯、激光窗口、红外成像系统、医疗设备等。

优势：

符合MIL-STD-883可焊性标准；

金属化材料可定制：Cr、Ti、Ni、Au等。

03红外光学窗口

优势：根据客户定制镀金处理Si基片，Ge基片；

1~6.8μm透过率小，同时7.5~14μm的透过率高；

可镀制金属化薄膜用于焊接。

应用：非制冷红外探测器

04金属化带纤、金属化光纤

将光纤或其他波导材料实现镀金金属化，从而实现光器件全金属化气密封装。

斜面、微透镜、楔形光纤所用的透镜光纤研磨机设备为完全自主研发，可依据产品结构不同而进行修改。可生产多种要求的光纤。

使用该设备加工出的光纤精度高，角度误差在1°内，尺寸误差控制在1微米内，端面质量好，在400倍端检仪下观察无可见划痕、麻点。

应用：干线高速通信、海底通信、军事国防、航空航天、光纤通讯、光纤传感

优势：附着力好；

焊接性良好，可承受280℃焊料30秒焊接；

镀金层厚度≥0.1μm；

抗拉强度高（热阻焊工艺拉力达到10N）；

代替高分子材料链接方案，解决容易老化、蠕变、不耐高温等问题。

金属化带纤金属化光纤（从左到右依次为楔形、单斜面、锥形、多斜面）

透镜光纤性能对比
参数	光越	市面出售产品
锥角误差	±2.5°	±5°
角度误差	±2.5°	±5°
曲率误差	±1um	±1um
偏心量	±1um	±1.5um
镀层拉力	≥15N	≥10N
镀金光纤性能对比
性能	光越	市面出售产品
镀层拉力	≥15N	≥10N
膜层厚度	约300nm	100~1000nm
单炉装载量	672根/炉	350根/炉
单炉时间	2H/炉	5H/炉

备注：

l 锥角误差主要是指微透镜光纤的圆锥夹角，对于单模，其精度越高，加工曲率的良率就越高。对于多模光纤，锥度的精度越高其耦合效率一致性更好。

l 角度误差主要是指楔形透镜光纤的夹角，对于其精度越高，加工的曲率的良率就越高。对于多模光纤，锥度的精度越高其耦合效率一致性更好。

l 曲率精度越高，耦合效率越高。

l 偏心量越小，透镜光纤的光轴与光纤包层轴线的夹角越小，从而方便耦合调试，提高生产效率。

l 大拉力可以降低产品使用不当导致的坏损率，对使用环境适应性更强。

光越科技磁控溅射镀金系列产品经过研发人员反复验证，据光越科技称，对其系列产品抱有很大信心。行业的快速发展，产品迭代的速度也越来越快，而光越科技也将保持初心，主攻高功率及保偏器件市场，探索市场动向，为客户提供更符合市场需求的产品。

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